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Elipse® Mask with ABEK1P3 Filters
Elipse® Mask with ABEK1P3 Filters
Le masque Elipse avec filtres ABEK1P3 offre une protection respiratoire industrielle compacte, légère et flexible. Il s'adapte parfaitement au visage, offrant un champ de vision complet sans interférer avec d'autres protections. Recommandé pour les gaz organiques, inorganiques, chimiques et à base d'ammoniac, ainsi que pour les poussières.
Points forts
- ✔Conception compacte et légère pour un confort optimal
- ✔Champ de vision complet sans interférence avec d'autres protections
- ✔Filtres à cartouche avec résistance respiratoire inférieure et performance de gaz améliorée
- ✔Durée d'utilisation prolongée grâce aux filtres à gaz spécifiques
- ✔Adaptabilité à différentes tailles de visage avec trois tailles disponibles
Applications recommandées
- Industrie chimique – protection contre les vapeurs organiques et inorganiques
- Industrie pétrolière & gaz – protection contre les gaz toxiques
- BTP et construction – protection contre les poussières et les gaz
- Mines et énergie – protection contre les gaz et les particules
Fiche technique
| Caractéristique | Valeur |
|---|---|
| Efficacité de filtration | P3 > 99,95% pour les particules de 0,3 μm |
| Matériau | Hypoallergénique, inodore, compatible FDA et sans latex ni silicone |
| Norme / Certification | Facemask: EN 140:1998. Cartridge filter: EN 14387:2004+A1:2008 ABEK1P3 R D. |
| Résistance aux gaz | {'Ammoniac': '> 50 minutes', 'Chlore': '> 20 minutes', "Cyanure d'hydrogène": '> 25 minutes', 'Cyclohexane': '> 70 minutes', 'Dioxyde de soufre': '> 20 minutes', "Sulfure d'hydrogène": '> 40 minutes'} |
| Caractéristique | Efficacité de filtration P3 > 99,95% pour les particules de 0,3 μm. À 1000 ppm, les durées de résistance sont les suivantes : - Cyclohexane : plus de 70 minutes - Chlore : plus de 20 minutes - Sulfure d'hydrogène : plus de 40 minutes - Cyanure d'hydrogène : plus de 25 minutes - Dioxyde de soufre : plus de 20 minutes - Ammoniac : plus de 50 minutes. |
| Norme ou certification | Facemask: EN 140:1998. Cartridge filter: EN 14387:2004+A1:2008 ABEK1P3 R D. |
| Propriété | Filtres à gaz : Charbon actif scellé dans une coque ABS. Filtres à particules : Type mécanique à couches multiples en média synthétique HESPA encapsulé avec TPE. Les filtres à particules sont intégrés à l'élément de carbone. |
| Spécification | 5 ans pour les masques et les filtres. |
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